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日本把微电子生产中所接纳的气体，按其差别的品位，详细分为下列几个差别的层次。

超高纯气体 气体中杂质总含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。

高纯气体 气体中杂质总含量控制在5%ppm以下，水份含量控制在3 ppm以内.

清洁气体 气体中杂质总含量控制在10 ppm以下,对水份含量未作严酷划定。

一、高纯气体的主要标度

通常，高纯气系统指气体中含较少杂质气氛（纯度），微量水份（干燥度）污染物粒子的娄量坚持在最低限度，其粒度也应是最小的（清洁度）。因此，关于高纯气体，纯度、干燥度、清洁是三项主要的标度。

特殊是近10年来，随着更重大、更麋集的大规模和超大规模集成电路的生产，对高纯气体清洁度的要求，其主要水平已不亚于对纯度和干燥度有严酷要求的用气工艺，无一差池其中的粒子提出限制。

二、控制粒子污染的主要性

关于控制粒子污染的主要性，在集成电路生产、实验部分已经有所熟悉，同时，实践已向人们批注，气体的粒子可造成微日子产品的短路或断路，改变半导体质料的电性能，也可以破损其晶格结构，影响印刷板的复制等等。这些破损性因素中的任何一个，无可导致集成电路失效的严重效果。通常，粒子的粒径小到1微米的十分之几，便可造成断路，而更小的凿子，私函可使线路事情降级。以是，避免粒子污染，在微电子手艺中是十分严酷的。迄今，在纯净气体应用手艺中，关于大流量高纯气体运送系统，美国已有运送含0。1?m以上粒子，每立方英尺气体中不凌驾10个的能力；它还为几个系统运送含有0.02?m以上粒子的气体，其粒子数每立方英尺不凌驾10个。三、清洁度控制的标准或划定 由于高纯度体的使用所在、性子、关况（如温度、压力等）都不完全一致，以是，怎样确定高纯气体的“三度”（纯度、干燥度、清洁度），还没有一个严酷而明确的看法。 关于纯度和干燥度的控制，我国CBJ73—84《清洁厂房设计规范》中指出，“高纯气系统指纯度大于或即是99.9995%，含水量小于5ppm气体。”

上述划定，都未涉及清洁度。我们知道，集成电路的生科，有相当一部分 是在清洁，是避免法埃粒子污染微电子产品所必需的。以是，对清洁的生产情形绝不允许接纳不清洁的气体来破损，必需使气体的清洁度与清洁情形坚持一致。为此，在下列规则和资料中，都作了响应的明确划定。

《空气清洁手艺步伐》

这是1979年3月由国家建委科教局批准实验的，其中对工业气体的使用作了这样的划定：“清洁室内使用权用的种种气体，如氮气、氧气、氢气、氩气和压缩空气等，其含尘浓度不应高于该清洁室所划定的含水量法浓度”。在该手艺步伐中，把清洁室的含尘浓度按每升情形空气中所含粒子数目，分为5个级别，即3级、30级、300级、3000级和30000级。各级划分是每升空气中含粒径≥0.5?m的尘粒平均数不凌驾3粒、30粒、300粒、3000粒和30000粒。

平均值是指事情职员在正常操作时，在事情区平面一连一段时间内，测得的含尘浓度的算术平均值。

该手艺步伐是我国正式宣布的第1个清洁手艺方面的有关划定，它由于与实践中通常接纳的“美国联邦标准209”在级别的体现要领上完全差别，不但使人们不习惯，并且由于其内容落伍于高速生长的微电子生产的手艺要求，以是，它未被真正实验和推广。

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